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日本把微电子生产中所接纳的气体，按其差别的品位，详细分为下列几个差别的层次。

超高纯气体 气体中杂质总含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。

高纯气体 气体中杂质总含量控制在5%ppm以下，水份含量控制在3 ppm以内.

清洁气体 气体中杂质总含量控制在10 ppm以下,对水份含量未作严酷划定。

一、高纯气体的主要标度

通常，高纯气系统指气体中含较少杂质气氛（纯度），微量水份（干燥度）污染物粒子的娄量坚持在最低限度，其粒度也应是最小的（清洁度）。因此，关于高纯气体，纯度、干燥度、清洁是三项主要的标度。

特殊是近10年来，随着更重大、更麋集的大规模和超大规模集成电路的生产，对高纯气体清洁度的要求，其主要水平已不亚于对纯度和干燥度有严酷要求的用气工艺，无一差池其中的粒子提出限制。

二、控制粒子污染的主要性

关于控制粒子污染的主要性，在集成电路生产、实验部分已经有所熟悉，同时，实践已向人们批注，气体的粒子可造成微日子产品的短路或断路，改变半导体质料的电性能，也可以破损其晶格结构，影响印刷板的复制等等。这些破损性因素中的任何一个，无可导致集成电路失效的严重效果。通常，粒子的粒径小到1微米的十分之几，便可造成断路，而更小的凿子，私函可使线路事情降级。以是，避免粒子污染，在微电子手艺中是十分严酷的。迄今，在纯净气体应用手艺中，关于大流量高纯气体运送系统，美国已有运送含0。1?m以上粒子，每立方英尺气体中不凌驾10个的能力；它还为几个系统运送含有0.02?m以上粒子的气体，其粒子数每立方英尺不凌驾10个。三、清洁度控制的标准或划定 由于高纯度体的使用所在、性子、关况（如温度、压力等）都不完全一致，以是，怎样确定高纯气体的“三度”（纯度、干燥度、清洁度），还没有一个严酷而明确的看法。 关于纯度和干燥度的控制，我国CBJ73—84《清洁厂房设计规范》中指出，“高纯气系统指纯度大于或即是99.9995%，含水量小于5ppm气体。”

上述划定，都未涉及清洁度。我们知道，集成电路的生科，有相当一部分 是在清洁，是避免法埃粒子污染微电子产品所必需的。以是，对清洁的生产情形绝不允许接纳不清洁的气体来破损，必需使气体的清洁度与清洁情形坚持一致。为此，在下列规则和资料中，都作了响应的明确划定。

《空气清洁手艺步伐》

这是1979年3月由国家建委科教局批准实验的，其中对工业气体的使用作了这样的划定：“清洁室内使用权用的种种气体，如氮气、氧气、氢气、氩气和压缩空气等，其含尘浓度不应高于该清洁室所划定的含水量法浓度”。在该手艺步伐中，把清洁室的含尘浓度按每升情形空气中所含粒子数目，分为5个级别，即3级、30级、300级、3000级和30000级。各级划分是每升空气中含粒径≥0.5?m的尘粒平均数不凌驾3粒、30粒、300粒、3000粒和30000粒。

平均值是指事情职员在正常操作时，在事情区平面一连一段时间内，测得的含尘浓度的算术平均值。

该手艺步伐是我国正式宣布的第1个清洁手艺方面的有关划定，它由于与实践中通常接纳的“美国联邦标准209”在级别的体现要领上完全差别，不但使人们不习惯，并且由于其内容落伍于高速生长的微电子生产的手艺要求，以是，它未被真正实验和推广。

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